2023年11月2日下午，由中央美术学院与比利时安特卫普皇家美术学院（Royal Academy of Fine Arts）共同主办的在中央美术学院美术馆开幕。此次展览是两校首次联合策划的学生创作交流活动，也是安特卫普皇家美术学院360周年校庆全球系列活动的重要组成部分。此次展览以“艺术之桥”为主题，旨在链接两校的学术与教育资源，呈现两国艺术高校“和而不同”的传承以及对当代文化多样性的阐释和表达。
中央美术学院党委高洪，比利时驻华大公共外交参赞冯云汉（Johan Van hove），中央美术学院院长林茂，安特卫普皇家美术学院院长、外方策展人约翰·帕斯（Johan Pas），中央美术学院副院长吕品晶，中央美术学院副院长、中方策展人邱志杰等出席开幕式。开幕式由中央美术学院国际合作与交流处处长王川主持。
此次展览为双方交流活动的第一阶段，在中央美术学院美术馆展出，展览将展至11月12日；第二阶段展览将于2023年11月30日至12月8日在安特卫普美术学院展出。
“艺术之桥”这个主题具有非常重要的意义，它搭建学校交流平台。我们将以交换对展为平台，加强高水平艺术院校办学经验的交流，共同探索具有悠久历史和深厚传统的美院现代发展之道。
这次展览活动两校交流合作，带来了创造力的多样性，以及未来更多合作的无数可能性，也将为两国间的文化交往注入新的活力。
此次展览以“快题”的形式进行，作品不强调深耕细作和过多的修饰，但可以明显感受到深度与直接，也包含了学生对这个主题的思考和回应。
这是一个全景式、集合式的对展，是关于当下安特卫普美院与中央美院青年艺术家创作的联展，更挖掘了两校在艺术和教育的共同点。
展览由360张A4纸的作品组成，象征着安特卫普美院360年的历史，学生们要抓住转瞬即逝的、低成本的、即兴的创作，再过360年，相信这里面就有一个新的“梵高”。
中央美术学院院长林茂会见比利时驻华大公共外交参赞冯云汉（Johan Van hove）及安特卫普皇家美术学院院长约翰·帕斯（Johan Pas）一行，双方就两校未来深度合作的多种可能和中比文化艺术的交流进行了充分沟通
比利时安特卫普皇家美术学院（Royal Academy of Fine Arts Antwerp）由弗莱芒画家大卫·特尼尔斯（David Teniers II）二世于1663年创立，是世界上最早的艺术学校之一。它因其在艺术和时尚领域的著名校友而受到认可。如今，它开设了九个美术和设计专业，并设有一个艺术教师专业。其主校区是安特卫普市中心的一处历史遗迹，拥有约600名来自世界各地的学生。除了优秀的艺术实践之外，学校还注重跨学科艺术研究和艺术博士学位。安特卫普美院属于AP应用科学与艺术大学的艺术学部。
学术主持：约翰·帕斯（Johan Pas）（安特卫普皇家美术学院院长）、林茂（中央美术学院院长）
策展人：皮特·波斯特尔（Peter Bosteels）（安特卫普皇家美术学院）、邱志杰（中央美术学院）
2023年是比利时安特卫普皇家美术学院建校360年的校庆之年，着眼于与中央美术学院即将的全面合作，安特卫普皇家美术学院将与中央美术学院联合策划两校学生的创作交流活动。此次活动以“艺术之桥：从安特卫普到，再回来（Art Bridges: from Antwerp to Beijing and back again）”为主题，面向两校在校学生，采取统一规格，限定时间，创作的方式，征集作品。两校将各自遴选出360件作品，以对展的方式最终呈现并结集出版。
安特卫普皇家美术学院RAFA学生作品将于11月2日至11月12日在展出；中央美术学院CAFA的作品将于11月30日至12月8日在安特卫普展出。
当今的世界，沟通、理解、对话和表达的重要性一再，同时也让我们一次又一次的意识到艺术在超越地理距离，弥合文化鸿沟方面的巨大潜力，这也是艺术之桥的价值和意义。
安特卫普皇家美院是欧洲第四古老美院，并于今年2023迎来了她的360岁生日。欧洲新艺术运动的发起人Henry Van De Velde毕业于此，梵高曾于在此求学并首次展出了他的《向日葵》。建校以来，安特卫普皇美(RAFA)培养了一代又一代具有全球影响力的领军艺术家，其本身就是欧洲艺术发展史的鲜活载体和传奇。
同样，中央美术学院的百年发展历程也与国家、民族和人民的命运紧紧相连。中央美术学院人满怀“艺术、为社会主义服务”的与情怀，努力审视世界高等美术教育发展的新趋势，建构了多学科、大美术的办学格局，以建设具有鲜明中国特色世界一流美术学院为目标，不断开拓新中国美术教育的新天地。
今年，作为安特卫普皇家美院360年校庆最重要的海外合作项目，来自两所极具代表性的国际顶尖艺术学府的学生将立足时代的节点，展开的想象，表达对世界的关怀，生命的，并分享对艺术的理解。同时也从一个侧面展示两校对艺术、教育和当代文化的理解。
1. 本次展出两校作品采用时间，统一命题，即兴创作的方式完成。展出作品统一为A4规格纸质材料，（210x297mm）。创作手法、技术手段和艺术风格不限，要求学生在完成作品但同时认真填写《报名表》。
4. 作品内容要求回应主题，思想健康。作品必须为作者原创，不含有他人著作权、境内外专有出版权、肖像权、专利权以及其他任何第三方内容。严禁使用高仿、、抄袭他人、复制自己的作品参展。
提交作品将由学校统一遴选，最终遴选出360幅作品参展（系列作品将只能有一幅入选）。入选者将需提交高清数字文件以供出版。